Thermisches Reinigungssystem

TrockenFaserlaserSprüh

TESTEQ Thermal-Vakuum-Reinigungssystem für hochpräzise Halbleiterkomponenten Branchenführend in der Entfernung von Verunreinigungen für Lithografie, Optik und Waferbearbeitung Diese Anlage verfügt über eine innovative schräge Versiegelungsstruktur (patentiertes Design - Thermisches Vakuum/Lithographie/UHV). Durch die an die Schwerkraft angepasste Abdeckplatte und die Verriegelungstechnologie des doppelten Dichtungsrings kann ein stabiles Vakuumniveau (≤10-⁶ Pa) aufrechterhalten werden, wodurch das Problem der verringerten Reinigungseffizienz, das durch Versagen der Versiegelung in herkömmlichen Anlagen verursacht wird, gelöst wird. Das integrierte Zweiflüssigkeits-Sprühsystem (Natriumhydroxid + deionisiertes Wasser) unterstützt die zerstörungsfreie Reinigung in einer Hochtemperatur-Vakuumumgebung (350℃) und vermeidet thermische Stressverformungen. Es eignet sich für die Wartung von Hochpräzisionskomponenten wie Maskenplatten, Linsengruppen und Vakuumpumpenkomponenten von Lithografiemaschinen und verbessert die Chipausbeute und die Lebensdauer der Geräte erheblich. Eine vollautomatische thermische Vakuumreinigungsanlage, die speziell für Komponenten von Lithografiemaschinen und Maskenplatten entwickelt wurde. Durch die Hochtemperatur- und Niederdruckumgebung und die berührungslose Trockenreinigungstechnologie können Verunreinigungen im Nanobereich (z. B. organische Rückstände und Partikel) gründlich entfernt werden, wodurch die strengen Anforderungen an ultrasaubere Oberflächen in den Bereichen Halbleiterherstellung, Flachbildschirme und integrierte Schaltungen erfüllt werden. Es unterstützt die Reinigung von Wafern, optischen Linsen, Vakuumkammern usw. in verschiedenen Szenarien.