Mit einer unteren Nachweisgrenze (LDL) von 45 Teilen pro Trillion (ppt) bietet das DF-560E der Halbleiterindustrie die branchenweit besten Sauerstoff (O2)-Messungen für die Qualitätskontrolle in ultrahochreinem (UHP) Elektronikgas.
Hochstabile coulometrische Spuren- und Prozentmessungen
Eine kompromisslose Lösung
Einfache Wartung und reduzierte laufende Kosten
Der DF-560E wurde für die Messung von O2 im Ultraspurenbereich auf niedrigstem Niveau entwickelt und bietet der Halbleiterindustrie eine branchenführende LDL von 45ppt. Er ist flexibel und anpassungsfähig und kann O2 in mehreren Hintergrundgasen überwachen und Daten in einer Vielzahl von Formaten aufzeichnen.
Dank der hochstabilen coulometrischen Sensortechnologie von Servomex, die eine schnelle Reaktionszeit bei Proben- und Durchflussänderungen bietet, verhindert der DF-560E die Auswirkungen von störanfälligen Anwendungen.
Entwickelt für einfache Bedienung
Der DF-560E ist ideal für Halbleiterfabriken und Analysewagen und wurde für eine einfache Bedienung und Tragbarkeit optimiert. Die Bedienung erfolgt über die Frontblende oder digitale Kommunikation, und dank der Trageoptionen lässt sich das Gerät leicht transportieren.
Der DF-560E senkt außerdem die Betriebskosten durch seine nicht verbrauchende, werkseitig kalibrierte coulometrische Technologie, die eine kostengünstige Einrichtung und Konfiguration ermöglicht. Die einzige laufende Wartungsanforderung ist eine jährliche Kalibrierung der Messspanne, ohne dass ein Austausch der programmierbaren Messzellen erforderlich ist.
Hochstabile coulometrische Spuren- und Prozentmessungen
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