Texturiermaschine SC-CSZ8000E-16F

Monokristalline Batch-Texturierungsanlagen Für die Texturierung und Reinigung von monokristallinen Wafern. Entfernung von Sägeschäden→Vorreinigung→Monotexturierung→Nachreinigung→Säurereinigung→Heißwassertrocknung→Trocknung (nur als Referenz) - Durchsatz: 400 Stück/Charge, 8000 Stück/Stunde. - Prozessbad-Zirkulationsvolumen einstellbar. - Gleichmäßige Pyramidenstruktur, Ätztiefe einstellbar. - Wafer Dicke Handhabung Fähigkeit bis zu 120μm - Mit sauberem Trockenbereich und selbstreinigendem Trockensystem. - H2O2-frei. - Schneller Inline-Badwechsel. - Erhältlich mit MES, RFID-System, Inline-Gewichtsprüfung optional.