Aluminium-Sputtertarget
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Eigenschaften
- Merkmal
- Aluminium
Beschreibung
Aluminium wird für die PVD-Metallisierung in Dünnfilmtransistoren für TFT-LCDs für Displays verwendet. Aluminium-Sputter-Targets sind hochrein und gewährleisten daher beste Leitfähigkeit des Materials. Die Mikrostruktur unserer Aluminiumtargets ist besonders feinkörnig. Damit garantieren wir Ihnen einen gleichmäßigen Abtrag und eine geringe Neigung zur Partikelbildung während des Sputterprozesses.
Material Eigenschaften:
Dichte [g/cm3]: > 2,70
Reinheit [: > 99,999 (5N)
Härte [HV1]: 16
Thermische Leitfähigkeit [W/(m·K: 238
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.