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Temperaturmesssystem MaskTemp™ 2

Temperaturmesssystem
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Eigenschaften

Physikalische Größe
Temperatur

Beschreibung

In-Situ-Retikeltemperatur-Messsystem Das in situ Reticle-Temperaturmesssystem MaskTemp 2 wird von Maskenwerkstätten zur Qualifizierung und Überwachung von E-Beam-Writern und Hochtemperatur-Reticle-Prozessschritten eingesetzt. Das MaskTemp 2 spielt eine Schlüsselrolle bei der Qualifizierung von E-Beam-Maskenschreibern, da eine extreme Temperaturstabilität über den langen Zeitraum (bis zu 24 Stunden) erforderlich ist, um eine Maske vollständig zu beschreiben. Im Inneren des E-Beam-Maskenschreibers sammelt das MaskTemp 2 über 24 Stunden hintereinander Temperaturdaten, die den Maskenherstellern die notwendigen Daten liefern, um die thermische Stabilität des Systems vor dem Schreiben kritischer Masken sicherzustellen. Die Mask Temp 2 unterstützt auch die Charakterisierung der Nachbelichtung, die Überwachung der Gleichmäßigkeit der Heizplattentemperatur, die Anpassung der Heizplatten und andere Hochtemperatur-Prozessanwendungen und hilft den Maskenherstellern, thermische Schwankungen nach dem Schreibprozess zu identifizieren und zu reduzieren, die sich auf die Qualität der Endabsehen auswirken. Anwendungen e-Beam Mask Writer Qualifizierung, Prozessentwicklung, Prozesssteuerung, Prozessqualifizierung, Prozessüberwachung, Prozesswerkzeugqualifizierung, Prozesswerkzeugabgleich

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.