Optische Inspektionsmaschine Archer™ series

für Gravur-Waferfür die ElektronikFehler

Overlay-Metrologie-Systeme Das Archer™ 750 Overlay-Metrologiesystem bietet eine genaue Rückmeldung des Overlay-Fehlers auf dem Produkt für schnelle Technologierampen und eine stabile Produktion von Spitzenspeicher- und Logikbauteilen. Die Wellenlängenabstimmbarkeit mit einer Auflösung von 10 nm liefert genaue und robuste Overlay-Fehlermessungen bei Schwankungen im Produktionsprozess. Mit einem Produktivitätsniveau, das normalerweise nur bei Scatterometrie-basierten Systemen erreicht wird, unterstützt das bildgebende Overlay-System Archer 750 eine erhöhte Abtastung für Scannerkorrekturen hoher Ordnung und einen hohen Durchsatz für die Inline-Überwachung. Hochentwickelte Algorithmen und ein neuartiges rAIM®-Overlay-Target-Design sorgen für eine verbesserte Korrelation zwischen Target- und Device-Overlay-Fehlern und helfen Lithographen, die Device-Overlay-Leistung genau zu verfolgen. Anwendungen On-product-Overlay-Kontrolle, Inline-Überwachung, Scanner-Qualifizierung, Patterning-Kontrolle