Optische Inspektionsmaschine eDR7xxx™ series

für Waferfür die ElektronikFehler

e-Beam Wafer Defect Review und Klassifizierungssysteme Das eDR7380™-System zur Überprüfung und Klassifizierung von Waferdefekten mit Elektronenstrahl (E-Beam) erfasst hochauflösende Bilder von Defekten und liefert eine genaue Darstellung der Defektpopulation auf einem Wafer. Mit einer breiten Palette von Elektronenoptiken und einem speziellen In-Lens-Detektor unterstützt das eDR7380 die Defektvisualisierung in allen Prozessschritten, einschließlich empfindlicher EUV-Lithografieschichten, Trench-Schichten mit hohem Aspektverhältnis und Spannungskontrastschichten. Die einzigartige Simul™-6-Technologie erzeugt ein komplettes DOI-Pareto in einem einzigen Test für eine genaue Defektsuche und eine schnellere Erkennung von Ausschlägen. Mit Konnektivitätsfunktionen wie IAS™ für breitbandige, optisch strukturierte Waferinspektoren und OptiSens™ für Bare-Wafer-Inspektoren bietet der eDR7380 eine einzigartige Verknüpfung mit KLA-Inspektoren für eine schnellere Ausbeuteerfassung während der IC- und Waferherstellung. Anwendungen Defektabbildung, automatische Inline-Fehlerklassifizierung und Leistungsmanagement, Qualitätskontrolle von Bare-Wafer-Ausgang und -Eingang, Wafer-Disposition, Hotspot-Erkennung, Defekt-Erkennung, EUV-Druckprüfung, Prozessfenster-Erkennung, Prozessfenster-Qualifizierung, Bevel Edge Review. Verwandte Produkte eDR7280: Elektronenstrahl-Wafer-Defektprüfungs- und Klassifizierungssystem mit E-Beam-Immersionsoptik der fünften Generation für die IC-Entwicklung und -Produktion im ≤16nm-Designknoten.