CVD-Vakuumbeschichtung

CVD-Vakuumbeschichtung - Keihin Ramtech Co.,Ltd.
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Beschreibung

Großflächige vertikale Sputtering-Anlage ・Effektiver Schichtbildungsbereich 300mm×100mm ・Anlagenkonfiguration Vertikale RAM-Kathodenzerstäubungskammer ・Filmmaterial TCO (ITO usw.) / Metalle (Cu usw.) / Metalloxide (NiO usw.) / C (DLC) / Andere

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