Lithografiesystem mit elektronischem Strahl JBX-3200MV
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Eigenschaften
- Typ
- mit elektronischem Strahl
Beschreibung
• Hochleistungssystem für die Maskenbelichtung bis zu 28 nm Strukturgröße.
• LaB6-Kathode mit Formstrahlelektronenoptik (shaped beam).
• Schreibfeld 150 mm x 150 mm
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