Metallpulver 7440-25-7

trocken

Tantalpulver hat eine Reihe hervorragender Eigenschaften, wie z. B. einen hohen Schmelzpunkt, einen niedrigen Dampfdruck, eine gute Kaltverformbarkeit, eine hohe chemische Stabilität, eine starke Korrosionsbeständigkeit gegenüber flüssigen Metallen und eine hohe Dielektrizitätskonstante des Oberflächenoxidfilms. Modell:Ta-001 APS(D50):-325mesh Reinheit(%):99.5～99.9% C(%):≤0.05 N (%):≤0.05 O (%):≤0.2 EINECS (EG-NR.)：231-135-5 Produktübersicht:Tantalpulver hat eine Reihe hervorragender Eigenschaften, wie z. B. einen hohen Schmelzpunkt, einen niedrigen Dampfdruck, eine gute Kaltverformbarkeit, eine hohe chemische Stabilität, eine starke Beständigkeit gegen Flüssigmetallkorrosion und eine hohe Dielektrizitätskonstante des Oberflächenoxidfilms. Es wird in der Elektronik, Metallurgie, Stahl, Chemie, Hartmetall, Atomenergie, supraleitende Technologie, Automobilelektronik, Luft- und Raumfahrt, Medizin und Gesundheit, wissenschaftliche Forschung und andere High-Tech-Bereiche haben wichtige Anwendungen. Haupteigenschaften: Tantalpulver hat einen hohen Reinheitsgrad (99,95 %), einen niedrigen Sauerstoffgehalt (500 ppm) und eine geringe Partikelgröße (1-3 um). Vorsichtsmaßnahmen:Dieses Produkt sollte in einem kühlen, trockenen Raum gelagert werden, um starken Druck zu vermeiden. Es sollte während des Gebrauchs nicht der Luft ausgesetzt werden, um Feuchtigkeitsaufnahme und Agglomeration zu vermeiden, was die Dispersionsleistung und den Gebrauchseffekt beeinträchtigen würde. Unbenutzte Produkte sollten nach dem Auspacken versiegelt oder in einem Vakuum gelagert werden. Tantalpulver hat einen hohen Reinheitsgrad (99,95 %), einen niedrigen Sauerstoffgehalt (500 ppm) und eine kleine Partikelgröße (1-3 um).