Spektroskop

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Spektroskop Spektroskop
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Beschreibung

Dieser Endpunktmonitor vom Emissionsanalysetyp ist für die Endpunktdetektion oder die Plasmazustandskontrolle im plasma-basierten Halbleiter-Dünnschichtprozess vorgesehen. Der neu entwickelte Rapture Intensity-Algorithmus ermöglicht eine genaue Endpunkterkennung durch die Erfassung schwacher Signaländerungen. Die Fähigkeit, subtile Veränderungen der Emission zu erfassen, hat die Empfindlichkeit deutlich verbessert. Die verbesserte Störsicherheit gewährleistet einen hochstabilen Betrieb in rauen Umgebungen von Fertigungslinien rund um die Uhr.
Helles Gitter mit Öffnungsverhältnis von F/2
Ein helles optisches System wird durch den Einsatz eines großen, aberrationskorrigierenden konkaven Gitters mit 70 mm Durchmesser von HORIBA Jobin Yvon erreicht. Die Fähigkeit des konkaven Gitters selbst, Licht zu sammeln, ermöglicht den Aufbau eines einfachen optischen Systems, das heller ist als die Czerny-Turner-Spektroskope und das den Reflexionsverlust durch Spiegel und andere reflektierende Oberflächen minimieren kann.
Hintergrundbeleuchteter CCD-Zeilensensor mit hoher Empfindlichkeit und hoher Auflösung von 2.048 Kanälen
Ein hintergrundbeleuchteter CCD erreicht eine hohe Quanteneffizienz und sorgt für eine stabile Spektroskopie im breiten Spektrum vom UV bis zum sichtbaren Bereich. Insbesondere die im UV-Bereich mögliche hochempfindliche Messung ermöglicht die Endpunkterkennung im weniger störbehafteten Wellenlängenbereich.
Sigma-P Software für erweiterte Prozesskontrolle
Diese Software führt eine Vielzahl von Schritten aus, die für die Prozesssteuerung erforderlich sind, von der Analyse des Plasmaverhaltens über die Erstellung von Datenbanken mit Messdaten bis hin zur Fernsteuerung von Fertigungsanlagen.

Dies ist eine automatische Übersetzung.  (Sehen Sie hier den englischen Originaltext.)