Pulslaser RMP

CWFaserfür unterschiedliche Wellenlängen

Die Leistung des mittleren Strahls und des äußeren Ringstrahls kann unabhängig voneinander eingestellt werden, und der dynamische Strahlmodus kann ohne optische Geräte im Raum eingestellt werden. Die Leistung des mittleren Strahls und des äußeren Ringstrahls kann unabhängig voneinander eingestellt werden, und der dynamische Strahlmodus kann ohne optische Vorrichtungen im Raum eingestellt werden. Die CW- und Puls-Betriebsarten des Systems können online umgeschaltet werden. Die Wellenformparameter des mittleren Strahls und des äußeren Ringstrahls können unabhängig voneinander bearbeitet werden, und es können unterschiedliche Wellenformen für den mittleren und den äußeren Ring aufgerufen werden, was einen flexiblen Betrieb ermöglicht. Das Diagramm zum Wellenformvergleich zeigt direkt den Vergleich der Leistungswellenform zwischen dem mittleren und dem äußeren Ring an und erleichtert so die Betrachtung der Kurvenkombination der Wellenformparameter. Anwendungen Er ist kompatibel mit Kollimationsfokussierungsschweißköpfen, Schwenkschweißköpfen und Hochleistungs-Galvanometerscannern, um unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden. Während des Schweißens wärmt der einstellbare Ringstrahl-Laser die Materialien durch den äußeren Ringlaser vor und erzeugt ein stabiles Schlüsselloch und Schweißbad, um Spritzer zu verhindern, Schweißporen zu reduzieren, die Schweißgeschwindigkeit und -stabilität effektiv zu verbessern und die Gasdichtigkeit und Schönheit des Schweißens zu verbessern, was in der Lithium-Elektrizität, bei elektronischen Komponenten, in der Automobilherstellung und anderen Industrien weit verbreitet ist.