Optisches Messsystem C12562-04

DickenUniversalautomatisch

Das optische NanoGauge-Dickenmesssystem C12562 ist ein kompaktes, platzsparendes, berührungsloses System zur Messung der Schichtdicke, das sich leicht in Anlagen installieren lässt, wo es benötigt wird. In der Halbleiterindustrie ist die Messung der Siliziumdicke aufgrund der Verbreitung der Through-Silicon-Via-Technologie unerlässlich, und in der Folienproduktion werden die Haftschichten immer dünner, um die Produktspezifikationen zu erfüllen. Daher benötigen diese Branchen jetzt eine noch höhere Genauigkeit bei Dickenmessungen im Bereich von 1 μm bis 300 μm. Das C12562 ermöglicht genaue Messungen über einen breiten Dickenbereich von 500 nm bis 300 μm, die sowohl die Dicke der Dünnschicht als auch die Dicke des Schichtträgers und die Gesamtdicke umfassen. Das C12562 bietet außerdem schnelle Messungen mit bis zu 100 Hz, was es ideal für Messungen an Hochgeschwindigkeits-Produktionslinien macht. Merkmale Misst von der Dünnschichtdicke bis zur Gesamtdicke Verkürzte Zykluszeit (max. 100 Hz) Verbesserte externe Auslöser (für Hochgeschwindigkeitsmessungen) Die Software wurde um eine vereinfachte Messung erweitert Kann sowohl die Oberfläche analysieren Präzise Messung von schwankenden Schichten Analyse der optischen Konstanten (n, k) Externe Steuerung möglich Messprinzip: Spektrale Interferometrie Wenn Licht in eine Dünnschichtprobe eintritt, kommt es zu Mehrfachreflexionen innerhalb der Dünnschicht. Diese Lichtwellen mit Mehrfachreflexion verstärken oder schwächen sich gegenseitig mit ihrer Phasendifferenz. Die Phasendifferenz jedes mehrfach reflektierten Lichts wird durch die Wellenlänge des Lichts und die optische Weglänge bestimmt. Daher zeigt das von der Probe reflektierte oder durchgelassene Spektrum ein spezifisches Spektrum, das durch die Schichtdicke bestimmt wird.