Das zweistufige Rootssystem SIHI Dry Chemie PD basiert auf einer trockenlaufenden Schraubenspindelpumpe und einer Wälzkolbenpumpe. Die Verdrängerkörper rotieren berührungsfrei mit entgegen gesetzter Drehrichtung. Der Einlass befindet sich an der Oberseite und der Auslass an der geodätisch tiefst-gelegenen Position (Top-down-Förderung).Das innovative Antriebskonzept ist die Grundlage für einen stufenweisen Ausbau zu einem intelligenten Vakuumsystem, welches Zusatzfunktionen wie z.B. Ventilsteuerung und Druckregelung übernimmt. Darüber hinaus bietet das intelligente System die Möglichkeit des gezielten Monitoring wichtiger Prozessdaten, um somit ein Maximum an Prozesssicherheit zu gewährleisten.
Anwendungen:
Das zweistufige Rootssystem SIHI Dry Chemie PD wurde für den Einsatz in explosionsgefährdeten Bereichen entwickelt. Das modular aufgebaute System kann flexibel an verschiedene Prozesse, wie z.B. Trocknung, Dünnschichtverdampfung, u.a., angepasst werden.