Prozess-Reinstwasseranlage VANOX® POU-F

Industriekompakt

Übersicht
Ein kompaktes, ultrareines Point-of-Use-(POU)-Filtrationssystem zur Entfernung von Partikeln aus Ultra Pure Water (UPW), das kritische Reinigungs- und Nassprozess‑Werkzeuge in der Halbleiterfertigung versorgt.

Detaillierte Beschreibung
Die Anforderungen der Halbleiterfertigung haben die Fähigkeiten der konventionellen Partikelmetrologie und der Endfiltration in UPW‑Systemen übertroffen. Konventionelle Endfilter haben Porengrößen, die nahe an oder größer sind als die kritischen Größen, die sogenannte "killer"-Defekte erzeugen. Da die Strukturgrößen auf 10 nm und darunter zugehen, ist die Kontrolle dieser Partikel am Point of Use entscheidend.

Bauteile und nicht stationäre Betriebsbedingungen in der UPW‑Verteilschleife – Rohrleitungen, Ventile und transiente Ereignisse – können Partikel erzeugen oder freisetzen, die Werkzeuge kontaminieren. Das VANOX® POU‑F System vermindert dieses Risiko durch validierte Werkstoffe und Partikelentfernungstechnologie am Einsatzort, um den Partikeltransfer zu kritischen Werkzeugen zu minimieren.

Das POU‑F baut auf über einem Jahrzehnt Vanox‑Einsatz in der Immersionslithographie auf und adaptiert diese Partikelkontrolltechnologie für den breiteren Fab‑Einsatz. Das System integriert sich in Evoqua's Microelectronics Technology Suite zur Echtzeitüberwachung und datenbasierten Steuerung.

Hauptmerkmale

• Semi C79-0113 konform
• 95 % Rückgewinnungsrate
• Validiert bis zur 10‑nm‑Ebene
• Pumpenaufbau nicht metallisch
• Hergestellt aus validierten ultrareinen Materialien
• Förderdruck geregelt und manuell einstellbar, um die UPW‑Versorgungsdruck zu entsprechen
• Echtzeit-Datenintegration mit Evoqua's Microelectronics Technology Suite

Vorteile

• Verbesserte Partikelentfernung am Werkzeuganschluss für kritische Reinigungswerkzeuge
• Reduziert partikelbedingte Einbußen bei Ausbeute und Leistung
• Verlängert die Laufzeit zwischen vorbeugenden Wartungsarbeiten an Wet/Clean‑Anlagen
• Entwickelt und validiert für ultrareine Halbleiterproduktionsumgebungen

Technische Daten / Spezifikationen

• Konformität: Semi C79-0113
• Rückgewinnungsrate: 95 %
• Validierung der Partikelentfernung: bis 10 nm
• Pumpe: nichtmetallische Bauweise
• Materialien: validierte ultrareine Materialien
• Förderdruck: geregelt und manuell einstellbar, um dem UPW‑Versorgungsdruck zu entsprechen
• Datenintegration: kompatibel mit Evoqua Microelectronics Technology Suite für Echtzeitdaten