UV-NIL-Photolithografiesystem UV/EVG®770

Das EVG770 ist eine vielseitige Plattform für die Step-and-Repeat-Nanoimprint-Lithographie zur effizienten Masterfertigung oder Direktstrukturierung komplexer Strukturen auf Substraten. Dieser Ansatz ermöglicht die einheitliche Replikation von Vorlagen von kleinen Matrizen bis zu 50 mm x 50 mm über große Flächen bis zu 300 mm Substratgröße. In Kombination mit Diamantdreh- oder Direktschreibverfahren wird der Schritt- und Wiederholungsdruck häufig eingesetzt, um Master effizient herzustellen, die für die Herstellung von Wafer-Optiken oder den SmartNIL-Prozess von EVG benötigt werden. Zu den Hauptmerkmalen des EVG770 gehören präzise Ausrichtfunktionen, vollständige Prozesskontrolle und die Flexibilität, die Anforderungen einer Vielzahl von Geräten und Anwendungen zu erfüllen. Merkmale Effiziente Masterfertigung von Mikrolinsen für waferebene Optiken bis hin zu Nanostrukturen für SmartNIL® Einfache Implementierung verschiedener Arten von Mastern Variable Resist Dispensiermodi Livebild während des Dosierens, Prägens und Entformens In-situ-Kraftsteuerung für Prägung und Entformung Optionale optische Keil-Fehlerkompensation Optionale automatisierte Handhabung von Kassette zu Kassette