Gasfilter Wafergard® III NF-30

PartikelMembranInline

Wafergard® III Inline-Filter des Gas-NF-30 Überlegene Partikelfiltration für ultrapure Gassystemsfiltration Am saubersten, die meisten leistungsfähigen Ganzmetallfilter vorhanden Patentierte Nickelfiltermembrane bietet überlegene Korrosionsbeständigkeit und ausgezeichnete Kompatibilität mit den trägen und reagierenden Gasen an. (Empfohlen nicht für Gebrauch mit Co, O3 und niedrigen Hydriddopantgasen.) Ideal für Hochtemperatur- und Dynamischdruckanwendungen Gewöhnlich verwendet für Flüsse bis zu 30 SLPM Materialien: Filterelement: Patentierter, gesinterter Nickelmembranenfilter. Gehäuse: Electropolished F20 Edelstahlgehäuse Oberflächenendeinnenraum: μin <=5 Ra Heliumleckbewertung: Qualifiziertes 2 `10-10 ATMcm/sek. Geprüft 1 `10-9 ATMcm/sek. Stromabwärts gerichtete Sauberkeit: Particles1: Weniger als 0.03 Partikel/Liter (μm =0.003 Betriebsbedingungen: Maximaler Eingangsdruck: Stab 70 (1000 P/in) an 100°C Maximaler Vorwärts-/der Rückseite Differenzdruck: Stab 10 (150 Psid) Normalbetriebshöchsttemperatur: Edelgase 400°C bei Stab 35 (500 P/in); Ätzende und reagierende Gase: 50°C bei Stab 70 (1000 P/in)