Heizplatte für Schweißarbeiten

KeramikPräzisionKühl

Keramische Heizplatten aus Siliziumnitrid können bis zum Außendurchmesser von 400 mm hergestellt werden, innerhalb dieses Durchmessers sind sämtliche Rechteckformen, Sonderformate und Durchbrüche möglich. Eine typische Höhe der Platte ist 5 mm mit integriertem Kühlkanal ca. 15 mm. Die Eigenschaften der Keramik und die geringe Masse ermöglichen schnelle Aufheizraten, eine homogene Temperaturverteilung und sehr gute Regelgenauigkeit. Aufgrund der geringen Wärmedehnung der Keramik bleibt die Oberfläche auch bei Temperaturwechselbetrieb im Vergleich zu Metallen sehr eben. Die hohe Festigkeit des heißgepressten Siliziumnitrids erlaubt eine hohe Beanspruchung (z. B. bei Druckbelastung) bei sehr geringem Verschleiß. Die Heizplatten eigenen sich hervorragend für anspruchsvolle Prozesse in Halbleiterfertigungsanlagen. Kundenspezifisches Design Unser hauseigenes Design bietet eine Anpassung der Größe und Bauform, Leistung, sowie das Einbringen von Bohrungen für Halterung und Temperaturregelung, außerdem sind gelaserte Vakuumrillen möglich. Die Plattenheizer werden flachgeschliffen, können aber für besondere Anforderungen auch auf < 10 μm Ebenheit bearbeitet werden. Unser keramischer Heizleiter und das kundenspezifische Design realisieren außerdem die Integration von mehreren Heizzonen, Wärmeentzugskompensationen und eines internen Messleiters zur Temperaturmessung. Für den Betrieb im Hochvakuum bis 1 000 °C kann eine Pinkontaktierung angeboten werden.