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... ·PR-Entlacker, Nit-Entlacker, Vorreinigung, Metallätzung, EKC-Entlacker, Entfernung von Polymerresten nach der Aschebehandlung, Wafer-Recycling, Trägerreinigung. ...
Für die Nassbearbeitung von Halbleiterwafern mit hohem Durchsatz bietet RENA die "Evolution" an, eine vollautomatische lineare Nassbank. Mehrere Oberflächenbehandlungsprozesse wie Reinigen, Ätzen, Resiststriping und Trocknen können mit der "Evolution" ...
RENA Technologies GmbH
... Für mehrstufige nasschemische Prozesse in der Halbleiterindustrie bietet RENA die flexible und kompakte halbautomatische Nassbank "Revolution" an. Diese Plattform besteht aus einem robusten integrierten zentralen Drehroboter und bis zu 5 Prozesstanks, ...
RENA Technologies GmbH
Für die einstufige Nassbearbeitung von Halbleiterwafern bietet RENA die halbautomatische "Advancer"-Familie an. Diese Tauchanlagen sind robust, praxiserprobt und hochgradig konfigurierbar bei bemerkenswert geringer Stellfläche. Die "Advancer" sind eine ...
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