3D-Laser-Bearbeitungsmaschine Ultratech LSA 201

LSA201 Ambient Control Laser Spike Anneal System für die Umgebungskontrolle Das LSA201 Laser Spike Annealing (LSA) System von Veeco hat die gleiche Architektur wie das LSA101, beinhaltet aber ein patentiertes Mikrokammerdesign, das eine vollständige Wafer-Umgebungssteuerung in einem Scan-Lasersystem ermöglicht. Die Mikrokammer ist einzigartig, da sie keine Vakuumschleuse benötigt. Das System ist in der Lage, Mischungen aus beliebigen Inertgasen einschließlich Formiergas zu betreiben. Der LSA201 zielt auf Anwendungen wie die Aktivierung von High K Metal Gate Junction und die Bildung von Nickelsilizid ab. Der LSA201 eignet sich gut für Prozesse im Sub-20nm-Bereich, wie z.B. Interface-Engineering und Materialmodifikation, bei denen die Umgebungskontrolle entscheidend ist Hauptmerkmale Lange Wellenlänge, Brewster-Winkel, p-polarisiertes Licht für optimale Gleichmäßigkeit innerhalb der Düse Temperaturrückführung im geschlossenen Regelkreis zur Aufrechterhaltung einer strengen Temperaturregelung Layoutunabhängiges Design, ideal für die Verarbeitung von Planer- und FinFET-Geräten Das lokalisierte Spannungsfeld mit flexibler Verweilzeit ermöglicht eine spannungsarme Verarbeitung und reduziert den Waferbruch