Präzisionssiebdruckmaschine mit automatischer Siebausrichtung und automatischer Substratausrichtung mittels CCD-Kamerasystemen
Zum Einsatz in der Produkt- und Prozessentwicklung
Für selektives Beschichten und funktionales Drucken von z.B. printed electronics, Solarzellen, RFID and organic electronics
Positionsgenauer Druck von Single- und Multilayerschichten
Kürzeste Rüstzeiten von Sieb, Substrat und Druckmedien
Einfache Parametervariation und sichere Parameterdokumentation
Thieme Qualität „Made in Germany“