Oxidationsofen RLA-1200

GlühGlockenGas

Dieses Lampenglühsystem für 4-Zoll- bis 8-Zoll-Wafer ermöglicht eine qualitativ hochwertige Verarbeitung auch für den Einsatz in der Forschung und Entwicklung. Aktivierung und Oxidation sind in einer Vakuum (LP)-Umgebung und N2-Load-Lock-Atmosphäre möglich. Merkmale Hochleistungsprozess mit F&E Kostengünstiges System durch manuellen Suszeptor-Transfer Obere und untere Querlampenstruktur und Eintauchofen verbessern die Gleichmäßigkeit der Temperatur in der Ebene 4- bis 8-Zoll-Wafergröße ist verfügbar Ausgestattet mit einem bedienerfreundlichen Hochleistungs-Steuerungssystem Das vakuumtaugliche Quarzrohr ermöglicht eine genaue Gassubstitution und einen Prozess unter Vakuumdruck Dieses Lampenglühsystem für die Forschung und Entwicklung von 4-Zoll- bis 8-Zoll-Wafern spart dank der Hochgeschwindigkeitsheizung bei 200°C/s und dem manuellen Suszeptor-Transfer Prozesskosten. Die Struktur mit den oberen und unteren Kreuzhalogenlampen erzielt eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit in der Ebene, wodurch sowohl eine kostengünstige als auch qualitativ hochwertige Verarbeitung möglich ist. Dank des vakuumfesten Quarzrohrs ist die Verarbeitung in einer reinen Vakuumumgebung (LP) und in einer N2-Schleusenatmosphäre möglich.