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Oxidationsofen RLA-3100GlühGlockenGas
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Eigenschaften
- Funktion
- Oxidation, Glüh
- Konfigurierung
- Glocken
- Wärmequelle
- Gas
- Atmosphäre
- Vakuum
- Weitere Eigenschaften
- kontinuierlich, für die Elektronik
- Maximaltemperatur
Max: 1.200 °C
(2.192 °F)Min: 400 °C
(752 °F)- Breite
900 mm
(35,43 in)- Höhe
2.580 mm
(101,57 in)- Tiefe
1.850 mm
(72,83 in)
Beschreibung
Dieses System für 4 - zu den 8-Zoll- Wafers führt Aktivierung und Oxidation in einer Umwelt- und N2schleuseatmosphäre des Vakuum (LP) durch. Die oberen und untereren Querlampen (Halogen) und ein tränkendes System werden für höhere auf gleicher Ebene Temperaturverteilungseinheitlichkeit benutzt.
Eigenschaften
Obere u. unterere Querlampenstruktur und uniformizing Einheit erhitzen, die Einheitlichkeit der Temperatur auf gleicher Ebene zu verbessern
4- zum 8-Zoll- Wafer ist Größe verfügbar
Sauberer Multiachsenroboter ermöglicht Hochgeschwindigkeits- und genauer Oblatenübertragung
Die maximale ununterbrochene Verarbeitung mit 50 Oblaten ist verfügbar
Ausgerüstet mit einem Betreiber-freundlichen Hochleistungskontrollsystem
Vakuum entworfenes Quarzrohr ermöglicht genauem Gasersatz und -prozeß mit Vakuumdruck
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.