Keramik-Vakuumspannplatte PLASMAPURE™ ALUMINA

Keramische Komponenten für Lithografie und Wafer-Inspektion Unsere hochreinen keramischen Komponenten eignen sich perfekt für Lithografie- und Wafer-Handling-Anwendungen der nächsten Generation. Sie gewährleisten eine minimale Verunreinigung und bieten eine außergewöhnlich lange Lebensdauer. KOMPONENTEN FÜR LITHOGRAFIE UND WAFERINSPEKTION Unsere hochreinen keramischen Komponenten sind resistent gegen chemische Angriffe und thermisch stabil. Sie eignen sich ideal für die Lithografie, das Wafer-Handling (geringe Verunreinigung) und die Wafer-Inspektion (extreme Haltbarkeit und Härte, maßhaltig). Zu den Anwendungen gehören: Substrate für Fotomasken Wafer-Futter Wafertisch-Komponenten Wafer-Tische EMPFOHLENE MATERIALIEN FÜR LITHOGRAFIE UND WAFERINSPEKTION Hochreine Tonerden UltraClean™ rekristallisiertes Siliziumkarbid CeraSiC, UltraSiC™ Direkt gesinterte Siliziumkarbide PHOTOMASKEN-SUBSTRATE CoorsTek-Fotomasken-Substrate werden aus hochreinem synthetischem Quarzglas hergestellt und bieten eine hervorragende Durchlässigkeit für UV- und sichtbares Licht, thermische Stabilität, elektrische Isolierung, geringe Doppelbrechung und dauerhafte chemische Stabilität. Durch die fortschrittliche, skalierbare Poliertechnologie sind diese Fotomasken-Substrate ideal für die mikroskopische Strukturierung von Wafern bis hin zu großen Flachbildschirmen (FPD). WAFERWÄCHSEL Unsere ultraflachen keramischen Vakuum-Waferchucks, Stepperchucks, porösen Chucks und elektrostatischen Chucks verbessern das Ertragsmanagement bei der Bearbeitung von Halbleiterwafern. Konfigurationen mit geringem Oberflächenkontakt minimieren das Risiko von Rückseitenpartikeln für empfindliche Anwendungen. Unsere Wafer Chucks bieten: Ultra-flache Fähigkeiten Spiegelglatte Oberfläche Außergewöhnlich geringes Gewicht Hohe Steifigkeit Geringe thermische Ausdehnung Φ 300 mm Durchmesser und mehr Extreme Verschleißfestigkeit