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Vakuum-Positioniersysteme
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System für das automatische Einspannen von plattenförmigen Werkstücken auf den Arbeitstischen der Konturbearbeitungsmaschinen. Die Blocksauger, die für das Blockieren der Werkstücke bei der Bearbeitung verwendet werden, benötigen keine ...
... Erfindungspatente, Gebrauchsmuster, Patente für das Erscheinungsbild und 76 Software-Urheberrechte. Das mehrachsige Positioniersystem kann aus mehreren linearen Modulen bestehen, um den Hub, die Präzision, die Geschwindigkeit ...
Wiederholbarkeit: 0,03 mm
Ladung: 25 kg
Hub: 50 mm - 1.000 mm
... Erfindungspatente, Gebrauchsmuster, Patente für das Erscheinungsbild und 76 Software-Urheberrechte. Das mehrachsige Positioniersystem kann aus mehreren linearen Modulen bestehen, um den Hub, die Präzision, die Geschwindigkeit ...
Wiederholbarkeit: 50 nm
Hub: 31, 6 mm
... linearen Positionierern CLS-52 besteht. Die letztere Möglichkeit ergibt ein 5D- oder zusammen mit dem SR-3211 ein 6D-Positioniersystem. Die Werte für den Rotationsweg sind für einen Drehpunkt auf der Oberfläche der ...
Wiederholbarkeit: 50 nm
Hub: 6, 31 mm
Der größere der beiden TRIPODs ist mit dem CLS-92 Modularsystem kompatibel. Kernstück dieses Positioniersystems ist ein Neigungstisch. Die Anordnung der drei Türme ermöglicht eine Roll- und Nickbewegung der Deckplatte ...
... Wafer-Inspektion und Metrologie Flachbildschirmindustrie (FPD): Druck von einzelnen Pixeln mit Inkjet Technologie Wo unsere Positioniersysteme überall im Einsatz sind: Unsere Ingenieure verfügen über ein breites ...
... Flache motorisierte Stellglieder mit Präzisions-Kugelgewindetrieb bieten außergewöhnliche Genauigkeit, Wiederholgenauigkeit und ultrafeine Positionsauflösungsfähigkeit bis zu 1 Mikron in einer sehr kompakten, flachen Einheit. Sie sind ...
... tOMography Nano crYo (OMNY)” mit dem Paul Scherrer Institut (PSI). Präzise, schnell und langlebig im Ultrahochvakuum • Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis 10E-11 mbar • Schmierung flüssig bis 10E-8 / ...
... 8 Stationen Halbleiter-Wafer-Indexer Dieses System wurde speziell für die Ionenstrahlbearbeitung von Halbleiterscheiben 2″ oder 3″ bei erhöhten Temperaturen entwickelt. Das Indexierungssystem ermöglicht eine präzise Steuerung der Waferposition ...
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