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Reinigungsanlagen für Wafer
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... wafer-Zwei-Flüssigkeits-Zentrifugal-Reinigungsmaschine, auch Wafer-Reinigungsanlage genannt, Wismut-Tellurid-Wafer-Reinigungsmaschine, automatische Zweiflüssigkeits-Zentrifugalreinigungsmaschine, ...
... >Das Reinigungsmedium besteht aus zwei Flüssigkeiten (hochreines Wasser und Druckluft). >Mit Ausnahme des Be- und Entladens erfolgt die gesamte Reinigung und Spülung vollautomatisch ohne manuelles Eingreifen. >Die Einbaulage ist sicher ...
... Logitech's SWC3000 bietet ein Single Wafer Cleaning bench top System für eine beschädigungsfreie, optimierte Reinigung von Wafern und Masken, die in der MEMS- und Halbleiterindustrie verwendet werden. Das SWC3000-System ...
... Diese Maschine ist eine vollautomatische Wafer-Reinigungsmaschine, die automatisch durch einen Manipulator in einer geschlossenen Umgebung betrieben wird. Sie verfügt über Reinigungs- und Trocknungsfunktionen, eignet ...
Beijing Semiconductor.CO.,Ltd
... Die Maschinen dieser Serie sind spezielle Reinigungsmaschinen nach der CMP-Behandlung von Wafern. Sie haben verschiedene Strukturen wie Einzelstationstyp, Index-Typ und In-Line-Typ, kann in verschiedenen Anwendungen verwendet ...
Beijing Semiconductor.CO.,Ltd
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