Die JBX-3050MV Reihe ist ein Elektronenstrahllithographiesystem für Schablonen-/Fadenkreuzherstellung, die die Entwurfsrichtlinie von 45 bis 32 Nanometer trifft. Eigenschaften dieses Systems kopieren Schreiben mit Hochgeschwindigkeits, hoher Genauigkeit und hohen der Zuverlässigkeit, erzielt durch Spitzentechnologie.
Das JBX-9300FS ist ein Elektronenstrahllithographiesystem, das einen Punktlichtstrahl, vektorscan und ein Schritt- und Wiederholungsstadium kennzeichnet. Fähig zu die Lichtstrahlgröße weit sich unterscheiden, ist das System in seinen Anwendungen von der Grundlagenforschung der Elemente vielseitig begabt, Produktion der optischen Elemente zur Forschung und Entwicklung auf Schablonen auf hohe beschleunigende ...
Das neue JBX-5500FS ist ein kosteneffektives, schreiben die hohe direkte Entschließung Werkzeug, das PC-gesteuert und einfach ist zu verwenden. Ein Punktlichtstrahl, vektorscan-System, das JBX-5500FS schreibt Muster an einer minimalen Linie Breite von 10nm an 50kV.
Das JBX-5500FS kann Schreibensgenauigkeiten in zwei verschiedenen Modi erzielen:
* Hoher Entschließung-Modus: Testblattgenauigkeit ...
The F3000 is an EB lithography system optimized for system LSIs of 65nm and smaller, supporting 300 wafer process technology, that offers shorter TATs in high-mix, variable-volume production environments.
Inheriting the high-resolution electron optical technology, the reliability, and the high average operation rate of previous models, the F3000 also boasts a more rigid body and upgrades ...
