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... Unterstützt φ100 mm, φ150 mm, φ200 mm gemusterte/nicht gemusterte Wafer Inspektionsempfindlichkeit - Erkennung der Standardpartikelgröße 0.1 μm Verarbeitungsleistung - Mindestens 40 Wafer pro Stunde ...
... und in Betrieb. Höherer Durchsatz und Erkennungsempfindlichkeit für die Großserienproduktion - Als Dunkelfeld-Wafer-Defekt-Inspektionssysteme tragen DI4600-Systeme zum Management von Halbleiterproduktionslinien ...
... Hochauflösende, breitbandige, plasmagestützte Waferdefekt-Inspektionssysteme Die Breitband-Plasma-Defektinspektionssysteme der Serie 392x unterstützen die Erkennung von Defekten auf Waferebene, das Erlernen der Ausbeute ...
KLA - TENCOR
... tatsächlichen Massenproduktion Erweiterungsfähigkeit Das System kann mit Trägern arbeiten, die 25 bis 150 Wafer laden, und es kann mit einem Wafer-Reinigungssystem integriert werden Effizienz Doppelstocktrays, ...
... Mit seiner einzigartigen optischen Designtechnologie erkennt und klassifiziert das Imperia-System ertragsmindernde Fehler mit dem zusätzlichen Vorteil einer gleichzeitigen hochmodernen Photolumineszenz (PL)-Produktionsüberwachung Produktübersicht Mit ...
Onto Innovation Inc.
Das GWI System wurde entwickelt speziell um Fehler auf Wafern in einem frühen Stadium der Produktion zu erkennen. Das System basiert auf einer hochauflösenden smart Kamera um die geforderte Genauigkeit in der Fehlererkennung zu erreichen. Die ...
... Metallverlust Hochpräzise Auflösung Systemauflösung: 0.2-0,8 μ m Schnelle Erfassungsgeschwindigkeit Gemusterte Wafer: 15 Minuten/Wafer, wenn die Anzahl der Defekte weniger als 200 beträgt ...
... Das optische Inspektionssystem MicroProf DI von FRT ermöglicht die Inspektion von strukturierten und unstrukturierten Wafern während des gesamten Fertigungsprozesses. Durch die Kombination von 2D-Inspektion und Metrologie ...
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