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Elementaranalysatoren

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PerkinElmer, Inc.
Elementaranalysator  2400 Series II PerkinElmer, Inc.
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Der PerkinElmer 2400 elementare Analysator der Reihen-II CHNS/O ist einer der führenden organischen elementaren Analysatoren auf dem Markt heute. Es ist für die schnelle Ermittlung des Carbon-, Wasserstoff-, Stickstoff-, Schwefel- und Sauerstoffinhalts in den organischen und anderen Arten der Materialien ideal.

HORIBA Jobin Yvon
Elementaranalysator  EMGA-921 HORIBA Jobin Yvon
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Analysator des Wasserstoffs EMGA-921: Es ist ein "neues Flaggschiffmodell" für h-Analysator und benutzerfreundliches Produkt.

Dieses ist ein elementarer Analysator des Wasserstoffs mit hoher Genauigkeit und der Wiederholbarkeit, die und so weiter zu innovativem R&D der Technologie sowie Qualitätskontrolle im Markt des Stahls, neue Materialien, Katalysator entspricht. Dieses ist ein Modell ...

Tragbarer RFA-Analysator für elementare Analysen HORIBA Jobin Yvon
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HORIBA setzt es ist Innovation im Erdölmarkt fort, indem es stolz mit Olymp Innov-X, zum des X-5000 beweglichen XRF Analysators zu fördern teaming. Das X-5000 ist ein bewegliches EDXRF System des schroffen, völlig integrierten geschlossenen Lichtstrahls, das die Energie und die Leistung eines traditionellen benchtop XRF anbietet, aber ist für transportfähigen Betrieb bestimmt. Unter Verwendung eines ...

Jeol
Elementaranalysator  JSX-3202M Jeol
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Der JSX-3202M Element-Analysator ist für schnelle, zerstörungsfreie Analyse des Aufbaus und Stärke von festem, von flüssigem, Puder und Dünnfilmproben bestimmt. Einen Energie des hohen Zählimpulses zerstreuendleuchtstoffröntgenstrahlanalysator (EDS) integrierend, kennzeichnet das JSX-3202M ein hervorragendes Niveau von Empfindlichkeit und umfaßt eine breite analytische Strecke vom Makro zu den Mikrobereichen. ...

MKS Instruments
NDIR-Analysator für elementare Analysen  Process Sense™ MKS Instruments

The Process Sense™ endpoint sensor is a small, low cost partial-pressure analyzer specifically designed to determine the completion of plasma chamber cleaning for both semiconductor and flat panel deposition chambers. Process Sense™ is based on infrared absorption, the only technique applicable to all (in-situ and remote) plasma cleaning processes.
Features & Benefits:

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recherche-kwref www di De 2012-02-06-12