Mask Aligner

... Der OAI Model 200 Mask Aligner ist ein kosteneffektiver Hochleistungs-Mask Aligner, der mit industrieerprobten Komponenten entwickelt wurde, die OAI zu einem führenden ...

... Verwendung einer Vielzahl von Substraten und Masken ermöglichen, ohne dass Werkzeuge zur Neukonfiguration erforderlich sind. Das Ausrichtmodul enthält Mikrometer für die X-, Y- und Z-Achse. Dieser Mask ...

... Rückseitenausrichtung mit einer Auflösung im Submikrometerbereich und damit eine Leistung, die zu jedem Preis unerreicht ist. Die Aligner verfügen über eine Advanced Beam Optics mit einer Uniformität von besser als ±3% ...

... Das EVG®610 ist ein kompaktes und vielseitiges F&E-System, das kleine Substratstücke und Wafer bis zu 200 mm verarbeiten kann. Das EVG610 unterstützt eine Vielzahl von Standardlithographieverfahren wie Vakuum-, Hart-, Weich- und Näherungsbelichtungsmodi ...

... ist, um hohen Produktionsanforderungen und Fabriknormen gerecht zu werden. Bedienerfreundliche Software, minimierte Zeit für Masken- und Werkzeugwechsel sowie effizienter weltweiter Service und Support machen sie zur ...